T2压延铜箔的特性及其生产工艺的改进
T2压延铜箔因其较电解箔具有高强度、高弯曲性、延展性、表面光泽更优等优良机械性能成为某些产品不可替代的原料,基材:T2纯铜,铜箔厚度:0.01mm-0.05mm,宽度:3mm-400mm。
T2压延铜箔绕曲性要好,分子紧密,柔性好,越薄柔性越好,一般有弯折要求的产品用T2压延铜箔。众所周知,在挠性电路板制作工艺中,选材相当重要,从材料厚度,可焊性,熔点,导电性,阻焊等各方面都有很具体的要求,所以铜箔的选择也要注意。
生产过程中,生产厚度小于01mm以下的T2压延铜箔,应当使用幅面宽度符合用户要求的多辊轧机。有些铜加工厂的轧机由于其他设备不配套、或工厂内部传统产品结构等原因,无法正常投入压延箔材生产。而有些小型铜箔加工厂因缺少关键设备或投资能力,不得不沿用陈旧过时的生产设备和工艺。
目前的表面钝化工艺,还不能有效防止T2压延铜箔软态产品存放期表面氧化变色问题,同时没有进行粗化及表面着色(镀层)处理。采用罩式退火炉不能软态成品退火性能的均匀稳定性,很难得到均匀细小的再结晶结晶组织。通过式退火炉目前还不能有效解决铜箔表面擦伤问题。
为了克服上述问题,可以在纯铜中加入0.04%镧经过热轧后,在不同的退火温度下组织发生了明显的变化。随退火温度的升高,合金抗拉强度和硬度有所下降,而塑性提高的同时电导率也增大。但是当退火温度高于550℃时电导率降低,塑性变差。